Titanziel

Titantargets sind wichtige Rohstoffe für den Sputterprozess der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD). Hochenergetische Partikel bombardieren ihre Oberflächen, zerstäuben Titanatome oder -ionen und bilden einen hochreinen Hochleistungsfilm aus Titan oder einer Titanverbindung auf dem Substrat.

▸Kernfunktionen und technische Spezifikationen:
1. Ultrahohe Reinheit: Diese Targets sind in verschiedenen Reinheitsgraden von 99,99 % (4 N) bis 99,9999 % (6 N) erhältlich und erfüllen die strengen Anforderungen an Verunreinigungen verschiedener Anwendungen und gewährleisten hervorragende Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Biokompatibilität.
2. Anpassbare Größe und Gewicht: Es wird eine vollständig kundenspezifische Produktion unterstützt. Maximale Größe und maximales Gewicht können entworfen und hergestellt werden, um den spezifischen Ausrüstungskammern, Prozessanforderungen und der Sputterleistung des Kunden gerecht zu werden und so maximale Prozessflexibilität zu gewährleisten.
3. Professionelle Verpackung: Sicher verpackt in Holzkisten oder Paletten sind diese hochwertigen, hochpräzisen Ziele während des Transports und der Lagerung vor Beschädigung, Kontamination und Verformung geschützt und entsprechen den industriellen Versandstandards.

▸Kernanwendungsbereiche:
1. LCD-Anzeigen (Flüssigkristallanzeigen): Wird zum Abscheiden von Elektroden (z. B. Gate, Source/Drain) oder Barriereschichten in Dünnschichttransistor-Arrays (TFT) verwendet, was für die Anzeigeleistung und -ausbeute von entscheidender Bedeutung ist.
2. Medizinische Geräte und Implantate: Wird für die Abscheidung hochreiner Titan- oder Titannitrid-Dünnfilme auf den Oberflächen von medizinischen Geräten wie künstlichen Gelenken, Knochenschrauben, Zahnimplantaten und Herz-Kreislauf-Stents verwendet, wodurch die Biokompatibilität, Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Osseointegration der Produkte deutlich verbessert werden.