Titanpulver ist ein feines Pulvermaterial, das durch spezielle Verfahren (wie Gaszerstäubung und Plasma-Rotationselektrodenverfahren) aus hochreinem Titanmetall hergestellt wird. Es vereint die hervorragenden Eigenschaften von Titanmetall mit der Plastizität seiner Pulverform und ist damit ein wichtiger Rohstoff für die moderne Fertigung.
Kernmerkmale und Anwendungsparameter:
1. Reinheitsgrad: Erhältlich in verschiedenen Qualitäten von 99,8 % bis 99,99 % (2N8 bis 4N). Ultrahochreine (≥99,95 %) Pulver eignen sich besonders für verunreinigungsempfindliche Anwendungen wie kritische Luft- und Raumfahrtkomponenten, Hochleistungs-Sputtertargets und hochreine Legierungen und gewährleisten die chemische Stabilität und die mechanischen Eigenschaften des Endprodukts.
2. Partikelgrößenverteilung: Kundenspezifische Produktion wird unterstützt. Die Größenbereiche der Pulverpartikel können präzise gesteuert werden, um die Anforderungen nachgelagerter Anwendungen zu erfüllen (z. B. werden üblicherweise 15–53 μm für den 3D-Druck verwendet, <20 μm für MIM, und zum Sprühen oder für chemische Zusätze können Pulver im Submikronbereich erforderlich sein). Es stehen auch spezifische Partikelgrößenverteilungen (z. B. Normal- und Engverteilungen) zur Verfügung, um den strengen Anforderungen verschiedener Prozesse (z. B. Pulverfließfähigkeit, Packungsdichte und Sinteraktivität) gerecht zu werden.
3. Verpackung: Es wird eine Standard-Doppelschicht-Vakuumverpackung verwendet. Die innere Schicht ist ein antistatischer Aluminiumfolienbeutel, der Sauerstoff und Feuchtigkeit wirksam isoliert; Die äußere Schicht ist ein hochfester, feuchtigkeitsbeständiger und durchstoßfester Verbundbeutel oder eine Eisentrommel. Dadurch wird sichergestellt, dass das Pulver während des Transports und der Lagerung einen niedrigen Sauerstoffgehalt (<100 ppm) beibehält, wodurch Oxidation und Kontamination verhindert und die Pulveraktivität maximiert wird.
▸Hauptanwendungen:
1. Additive Fertigung (3D-Druck): Selektives Laserschmelzen (SLM), Elektronenstrahlschmelzen (EBM) und andere Verfahren werden zur Herstellung komplexer, leichter Luft- und Raumfahrtstrukturen (Triebwerkskomponenten, Stents) und biomedizinischer Implantate (Knochengelenke, Zahnwurzeln) eingesetzt.
2. Target-Herstellung: Wird zur Vorbereitung planarer und rotierender Sputtertargets für die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) in Anwendungen wie Mikroelektronik, Anzeigetafeln, dekorativen Beschichtungen und optischen Beschichtungen verwendet.
3. Metallspritzguss (MIM): Wird zur Herstellung großer, komplexer, hochpräziser und winziger Titanlegierungsteile (z. B. Uhrengehäuse, Teile für medizinische Geräte und Schusswaffenkomponenten) verwendet, wobei nahezu endkonturnahe Formen erreicht werden.
4. Pulvermetallurgie (PM): Hochleistungskomponenten aus Titanlegierungen mit endkonturnaher Form (z. B. Ventilkörper, Pumpenkomponenten und Automobilteile) werden durch Prozesse wie Pressen und Sintern sowie heißisostatisches Pressen (HIP) hergestellt, wodurch eine hohe Materialausnutzung erreicht wird.
5. Thermische Spritzbeschichtungen: Wird zur Herstellung korrosionsbeständiger, verschleißfester oder biokompatibler Beschichtungen verwendet (z. B. Oberflächenbehandlungen für chemische Geräte, Offshore-Plattformen und medizinische Geräte).
