SPUTTER-TARGETS MIT NIEDRIGEM SPIT, HOCHREINEM SPUTTER-TARGET FÜR EINE OPTIMALE DÜNNFILM-BESCHICHTUNG Das Wesen des Sputterns als Abscheidungstechnik ist seine Fähigkeit, Material von einer festen Quelle, einem sogenannten Target, auf ein Substrat zu übertragen, um einen dünnen Film zu bilden.Die Reinheit des Sputtertargets ist von größter Bedeutung, da es direkt in
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