Hochreines Sputtertarget
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Hochreines Sputtertarget

Anzahl Durchsuchen:0     Autor:Site Editor     veröffentlichen Zeit: 2024-04-15      Herkunft:Powered

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LOW SPIT, HOCHREINE SPUTTERTARGETS FÜR OPTIMALE DÜNNFILMBESCHICHTUNG


Das Wesentliche beim Sputtern als Abscheidungstechnik ist seine Fähigkeit, Material von einer festen Quelle, einem sogenannten Target, auf ein Substrat zu übertragen, um einen dünnen Film zu bilden.Die Reinheit der Sputtertarget ist von größter Bedeutung, da es die Qualität und Eigenschaften des resultierenden Films direkt beeinflusst.Hochreine Sputtertargets mit Reinheiten zwischen 99,9 % und 99,9999 % sind so konstruiert, dass Verunreinigungen minimiert werden, die andernfalls die Leistung des Dünnfilms beeinträchtigen könnten.

Ein entscheidender Aspekt, der hochreine Targets auszeichnet, ist ihre „Low-Spit“-Eigenschaft.Unter Sputtern versteht man das Herausschleudern von Mikropartikeln aus der Targetoberfläche beim Sputtern, was zu Defekten im Dünnfilm führen kann.Low-Spit-Targets durchlaufen sorgfältige Herstellungsprozesse und strenge Qualitätskontrollmaßnahmen, um einen minimalen Partikelauswurf zu gewährleisten und so die Gleichmäßigkeit und Integrität der Folie zu verbessern.


AUSSERGEWÖHNLICHE SPUTTERTARGETS MIT DIESEN VORTEILEN


Die Vorteile der Nutzung hochreine Sputtertargets sind vielfältig:


Verbesserte Filmqualität

Der entscheidende Vorteil liegt in ihrer Fähigkeit, Filme von höchster Qualität zu produzieren.Der hohe Reinheitsgrad stellt sicher, dass unerwünschte Verunreinigungen nicht in den dünnen Film eindringen und dessen elektrische, optische und mechanische Eigenschaften erhalten bleiben.


Verlängerte Ziellebensdauer

Hochreine Materialien weisen aufgrund ihrer dichten und gleichmäßigen Mikrostruktur einen geringeren Verbrauch beim Sputtern auf.Dies führt zu einer längeren Target-Lebensdauer und reduzierten Ausfallzeiten für den Target-Austausch, wodurch die Produktionseffizienz optimiert wird.


Vielseitigkeit in allen Anwendungen

Von Edelmetalllegierungen für die Elektronik und Optoelektronik bis hin zu Spezialverbindungen für biomedizinische Geräte – hochreine Targets decken ein breites Spektrum von Anwendungen ab, die höchste Standards erfordern.


Kosteneffektivität

Auch wenn die Anfangsinvestition in hochreine Targets im Vergleich zu Standardoptionen höher sein kann, führen ihre längere Lebensdauer und die Fähigkeit, fehlerfreie Filme zu produzieren, im Laufe der Zeit zu Kosteneinsparungen durch geringere Materialverschwendung und verbesserte Produktleistung.


INNOVATIVE SPUTTERTARGETS FÜR SPEZIFISCHE ANWENDUNGEN


Die Innovation bei hochreinen Sputtertargets beschränkt sich nicht nur auf die Verbesserung des Reinheitsgrads;Es erstreckt sich auch auf die maßgeschneiderte Zusammensetzung für spezifische Anwendungen:


Elektronik-Industrie

In einer Zeit, in der elektronische Geräte immer kleiner werden und gleichzeitig immer leistungsfähiger werden, spielen hochreine Edelmetalllegierungen wie Gold (Au), Silber (Ag) und Platin (Pt) eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Komponenten mit außergewöhnlicher Leitfähigkeit und Zuverlässigkeit.


Sektor für erneuerbare Energien

Für Solarmodule, die dünne Filme mit optimalen Lichtabsorptionseigenschaften erfordern, bieten hochreine Kupfer-Indium-Gallium-Selenid-Targets (CIGS) einen effizienten Weg zur Verbesserung der Solarzelleneffizienz.


Biomedizinische Anwendungen

Biokompatible Beschichtungen auf medizinischen Geräten sind für die Patientensicherheit von größter Bedeutung.Targets aus hochreinem Titan (Ti) bieten eine hervorragende Biokompatibilität für implantierbare Geräte, ohne Kompromisse bei Haltbarkeit oder Funktionalität einzugehen.


Ningbo Chuangrun New Materials Co., Ltd.(CRNMC) wurde im Juni 2012 gegründet und verfügt über 4 Produktionsstandorte.

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